2月19日，長沙經(jīng)開區(qū)隆重召開2025年高質量發(fā)展大會，現(xiàn)場表彰為園區(qū)建設作出突出貢獻的先進典型。在發(fā)布的年度"光榮榜"中，頂立科技獲“2024年度經(jīng)濟質效先進單位”、“2024年度新設研發(fā)機構先進單位”“2024年度安全生產(chǎn)先進單位”"三項榮譽。

在半導體、新能源、航空航天等尖端領域，材料的性能往往決定著技術的天花板。當傳統(tǒng)硅基材料逐漸逼近物理極限，一種名為碳化硅（SiC）的“神奇晶體”正悄然掀起一場材料革命——它耐高溫、抗輻射、導電性能優(yōu)異，被譽為“第三代半導體之王”。而要將這種材料的潛力轉化為現(xiàn)實，化學氣相沉積（CVD）技術則是其中最關鍵的一環(huán)。今天，讓我們揭開碳化硅CVD爐工藝的神秘面紗，看它如何為現(xiàn)代科技“鍍”上超能鎧甲！一、碳化硅CVD工藝：納米級的“分子雕刻”如果說傳統(tǒng)材料加工是“大刀闊斧”的塑造，那么CVD工藝則堪稱納米級的“分子雕刻”。在高溫反應爐中，氣態(tài)的前驅體分子（如硅烷...

2025年2月，中國工程院院士、北京科技大學學術委員會主任、北京材料基因工程高精尖創(chuàng)新中心主任謝建新教授一行蒞臨頂立科技考察調研。頂立科技董事長戴煜、聯(lián)合創(chuàng)始人譚興龍及技術中心團隊熱情接待。謝建新院士是我國材料科學與工程領域的權威專家，長期致力于材料數(shù)字化、智能化研發(fā)與制造領域的研究。在材料基因工程、材料大數(shù)據(jù)、先進交通運輸與航天航空關鍵鋁合金材料、高端制造銅合金和銅鋁復合材料、先進短流程加工技術及關鍵裝備的研究和應用方面成果豐碩。 頂立科技董事長戴煜向謝建新院士匯報了企業(yè)經(jīng)營情況、業(yè)務領域，以及近年來圍繞航空航...

真空石墨化爐是一種用于碳材料高溫處理的工業(yè)設備，其核心工藝是通過高溫（2000-3000℃）在真空或惰性氣體環(huán)境中，使碳材料（如碳纖維、負極材料等）發(fā)生石墨化轉變，形成高度有序的石墨晶體結構。以下是其核心工藝的詳細解析：1. 溫度控制與梯度升溫1.1、高溫范圍：石墨化需在2000℃以上進行（最高可達3000℃），通過電阻加熱（石墨發(fā)熱體）或感應加熱實現(xiàn)。1.2、梯度升溫：分階段升溫以避免熱應力導致材料開裂，例如：低溫階段（<1000℃）：去除揮發(fā)分（如水分、殘留有機物）。中溫階段（1000-2000℃）：碳結構初步有序化。高溫階段（>2000℃）：石墨晶體生長，形成高結晶度。2...